Der Trend geht ganz eindeutig weg vom Strahlen und hin zum Abreinigen von PVD-Geschirren mittels nasschemischen Entschichten. Die Vorteile: kein Verschleiss durch abrasives Strahlen keine thermische Verformung keine Fehlbeschichtungen wegen Drehteller-Blockaden verursacht durch Strahlgut
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Dank unserer neuen Entschichtungstechnologie bereiten auch Si- oder Cr-dotierte PVD-Schichten keinerlei Probleme bei der Entschichtung – ganz gleich, ob auf Hartmetall oder HSS!
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Zunehmend ist festzustellen, dass Cr bzw. CrN als Adhesionsschicht unter einer DLC bzw. a-CH nach und nach von anderen Elementen abgelöst wird. Wir tragen dem Umstand schon jetzt dadurch Rechnung, dass unsere Entschichtungs-Verfahren bereits den neuen techn ischen Gegebenheiten speziell angepasst wurden.
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